전자 산업을위한 니오피움 입자

전자 산업에 사용되는 니오피움 입자는 순도가 99.95% 이상이어야하며 산소와 같은 간질 요소의 함량에 대한 엄격한 제한이 있어야합니다 (O<100ppm), nitrogen (N<50ppm), and carbon (C<50ppm). Especially, it is necessary to control the emission of alpha particles such as uranium and thorium (<0.001ppm) to avoid causing soft errors in semiconductor devices. This characteristic is the foundation for ensuring the stability of material electrical properties and device reliability, directly determining the consistency of the final product performance.

Niobium particles need to have controllable particle size distribution (usually D50=1-50 μ m) and high sphericity (>90%) 다른 응용 프로그램 시나리오의 프로세스 요구 사항을 충족합니다. 구형 입자는 우수한 유동성 및 충전 특성을 가지며, 3D 프린팅 및 전극 슬러리에 적합합니다. 다공성 입자는 커패시터 양극의 특이 적 표면적을 증가시키는 데 유리합니다. 입자 크기 분포의 농도 (스팬 값<1.2) directly affects the sintering density and surface roughness.

높은 유전체 상수 (ε ≈ 41)와 낮은 유전체 손실을 가져야하며, 높은 - 주파수 커패시터 유전체 재료에 적합합니다. 초전도 임계 온도 (9.25K)는 낮은 - 온도 초전도 장치에 선호되는 재료입니다. 동시에 저항력이 낮습니다 (<15 μ Ω· cm) characteristic meets the conductivity requirements of semiconductor coating. These electrical properties make it capable of handling various application scenarios ranging from consumer electronics to quantum computing.

높은 - 온도 소결 동안 안정성을 유지하고 반응하지 않고은 및 구리와 같은 전극 재료와 우수한 CO 발사 인터페이스를 형성해야합니다. 동시에, 그것은 우수한 분산 성과 슬러리 적응성을 가져야하며, 정착하지 않고 유기 운반체와 호환되어야합니다. 이러한 기능은 현대 전자 생산 공정에서 광범위한 응용의 타당성을 보장합니다.

 

전자 산업의 Niobium 입자의 주요 응용 시나리오 및 장비는 다음과 같습니다.

• 칩 다층 세라믹 커패시터 (MLCC)

유전체 재료 첨가제로서 유전 상수 및 온도 안정성을 향상시키고 스마트 폰 및 자동차 전자 제품과 같은 높은 - 엔드 MLCC 제조에 사용됩니다.

• 탄탈륨 커패시터 대체

양극 재료로서, 고유 한 표면적 다공성 구조는 소결에 의해 형성되고 산업 전원 공급 장치 및 서버와 같은 높은 - 성능 커패시터에 적용된다.

• 초전도 양자 장치

초전도 공동의 내부 벽을위한 코팅 재료로서, 입자 가속기 및 양자 컴퓨터의 매우 저온 작업 환경에서 사용됩니다.

• 반도체 스퍼터링 대상 재료

고순도 니오피움 입자는 칩 금속 화 층 및 장벽 층의 증착을위한 표적 재료로 소결되며, 90nm 미만의 고급 공정에 적합합니다.

• 3D 인쇄 전자 장치

구형 Niobium 입자는 안테나 및 센서와 같은 임베디드 전자 부품을 인쇄하기위한 전자 페이스트의 주요 구성 요소로 사용됩니다.

• 압전 세라믹 재료

납 마그네슘 니오 베이트 (PMN)와 같은 압전 세라믹의 원료로서 초음파 변환기 및 필터와 같은 음향 장치에 사용됩니다.

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