화학 장비의 하프 늄 입자

1, 높은 - 순도 hafnium 원료의 준비
Hafnium 지르코늄의 분리 및 정제 :
추출 분리 기술 (예 : MIBK Thiocyanate 시스템)을 사용하여, 높은 - 순도 Hafnium 화합물 (예 : HFCL)은 지르코늄 Hafnium Co 발생 광석으로부터 분리된다.
감소 용융 :
Kroll 공정 또는 전자 빔 용융 (EBM)을 사용함으로써, 산소와 같은 불순물을 엄격히 제어하여 하프 늄 화합물이 잉곳으로 감소되고 녹아<600 ppm) and nitrogen (N<100 ppm) to ensure substrate purity of ≥ 99.9%.
2, 분말 형성 공정
수소화 탈수 형성 (HDH) 방법 (주류 공정) :
수소화 : 500-800 도의 수소 분위기에서 네오디뮴 잉곳을 치료하여 수소 손잡이를 유도합니다.
분쇄 및 연삭 : 보호 대기 하에서 표적 입자 크기 범위로의 기계적 분쇄.
탈수 소화 : 탈수 형성은 800-1000도 C에서 높은 진공으로 수행되어 비 지정된 표면적이 높은 불규칙한 형태의 하프 늄 입자를 얻는다.
플라즈마 분무 (PA) 방법 (High - 성능 요구 사항) :
비활성 대기의 혈장 아크를 통해 액체 액 적으로 고도로 - 순도 Hafnium 전극 막대를 녹입니다.
액 적은 비행 중에 고도의 구형 입자로 식고 유동성이 좋고 산소 함량이 낮지 만 더 높은 비용으로 식 힙니다.
3, 포스트 처리 및 채점
선별 및 등급 :
진동 스크리닝 및 공기 흐름 분류 기술을 사용하여 분말은 필요한 입자 크기 범위 (예 : 1-45 μm, 45-150 μm)로 정확하게 분류됩니다.
표면 처리
산 세척 : 산화물과 오염 물질을 청소하기 위해 혼합 산 (예 : HF - HNO ∝)을 사용하십시오.
수동화 처리 : 조밀 한 산화물 필름을 형성하여 부식 저항을 더욱 향상시킵니다.
성능 테스트 :
구성 분석 : GDMS는 순도 및 불순물 함량을 감지합니다.
성능 테스트 : 부식 테스트 (예 : 70% 질산에 담그기), 입자 크기 분포 및 유동성 테스트를 수행합니다.
4, 포장 및 저장
패키징은 운송 및 보관 중 산화 및 수분 흡수를 방지하기 위해 불활성 대기 (예 : 아르곤) 또는 진공 환경에서 수행해야합니다.
추적 성과 안전한 사용을 보장하기 위해 입자 크기, 순도, 배치 번호 등과 같은 정보가있는 레이블.